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第83章 时间紧迫,提前囤积零件

位“林工”年轻,他在光刻领域的成就与造诣,早已经远超在场所有人。

然而。

就在这时。

赶了最近一班飞机,连夜飞回来的冯承铭开口道:“如果用氧化铬做为抗反射层,也能消除大部分的驻波效应?”

“嗯。”

林天点了点头,脱口而出道:“用氧化铬做为抗反射层,厚度20纳米,可以有效解决驻波效应。”

冯承铭:“为什么是20纳米?”

“20纳米的厚度,已经可以解决大部分驻波效应,21纳米,用不上,19纳米不够用。”

林天淡淡回答道。

两人的一问一答,让默默观看的陈星惊叹,红色品质人才果然有点变态啊!

舌战群儒,有问必答。

“刚才说话的那个老头,就是龙芯国际的光刻首席。”曲程压低了几分音量介绍道。

“原来是他。”

陈星忍不住笑了笑,这位老爷子可太传奇了。

吹个牛逼,把一群院士都唬住,如果能证实可以利用多重曝光技术实现14纳米芯片,那他吹的牛也算实现了。

“制造光掩膜版的时间比较漫长,单次流片的时间都要1到3天,我建议陈总还是不要等了,公司可不能没有你。”

曲程提了个醒道。

单次要1到3天,经过林天推算,14纳米芯片掩膜版,一共要经历50次左右流片,才能最终进行封装使用。

最快也要50天时间,这时间还真是紧迫埃

双十一是赶不上了,陈星只能寄托于双十二能见到14纳米轻舟处理器芯片的样品。

哪怕只有一枚,也能组装出一台样板机,方便他后续召开新旗舰手机发布会。

目睹完林天实力,再次认识到红色品质人才变态程度后,陈星也听从曲程的提议道:

“嗯,既然流片时间这么漫长,那我今晚就准备先回深城了,曲老要一起吗?”

“不了。”

曲程摇了摇头,目光瞥向不远处的高永明道:“芯片设计有高首席和白衍,还有那群老家伙,我就在这里替你看着吧,免得高永明那小子挖伱墙角。”

高永明:“……”

这句话音量提高了不少,清晰地落入高永明耳中。

挖墙脚?

他是这样的人吗?

虽然…确实…嗯…有亿点点想挖,但曲程说得也太直白了吧,他不要面子的啊?

高永明眼角抽搐了两下,轻咳两声保证道:“放心吧陈总,我不是那样的人。”

“不信

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